日企開發出1/10電量製造1.4納米半導體的技術

大日本印刷（DNP）開發出了能以十分之一的耗電量生產先進半導體的技術。將面向佳能生產的新方式製造裝置，於2027年量產可支援新一代1.4納米（1納米為十億分之一米）產品的核心構件。人工智慧（AI）半導體的製造成本有大幅降低的可能性。

目前，要量產最先進的半導體，需要使用全球只有荷蘭阿斯麥控股（ASML Holdings）生產的極紫外（EUV）光刻機。在晶圓（基板）上繪製電路的“光刻工序”佔半導體總製造成本的3至5成。電路越精細，光刻次數就越多，耗電量也隨之增加。一台EUV光刻機的價格為300億日元左右，給半導體廠商帶來沉重的投資負擔。

而佳能的“納米壓印（Nanoimprint）”製造裝置採用類似蓋章的方式在晶圓上製作電路。DNP開發出了相當於精細印章的電路原版“模板（template）”，最高可用於1.4納米製程。此前該技術無法支援2納米等先進半導體的製造。

繼續閱讀請點擊這裡，進入日經中文網

日本經濟新聞社與金融時報2015年11月合併成為同一個媒體集團。同樣於19世紀創刊的日本和英國的兩家報社形成的同盟正以“高品質、最強大的經濟新聞學”為旗幟，推進共同特輯等廣泛領域的協作。此次，作為其中的一環，兩家報社的中文網之間實現文章互換。